Создана установка плазмохимического осаждения на 300-мм кремниевых пластинах
@sdelanounas_ru
© tehnoomsk.ru
Российская компания НИИТМ, расположенная в Зеленограде (Москва), завершила разработку и представила опытный образец первой отечественной установки для плазмохимического осаждения на 300-миллиметровых кремниевых пластинах. Это оборудование играет ключевую роль в развитии российской микроэлектронной промышленности. Ранее подобные установки закупались за границей, а доступные отечественные аналоги работали с пластинами меньшего диаметра, что ограничивало количество производимых чипов и увеличивало их себестоимость.
Источник: tehnoomsk.ru
Поделись позитивом в своих соцсетях
Другие публикации по теме
В России произведены первые лазеры для литографии
На московском предприятии ГК «Лассард» произведены пе...nbsp;на 90нм, — заявили в Министерстве промышленности.
Как делают транспортную карту «Тройка». Репортаж с производства
Теперь выпуск транспортной карты «Тройка» не зависит от&nb...е кристального производства завода «Микрон» в Зеленограде.
АТБ Электроника на конференции Информационная безопасность АСУ ТП КВО
15-16 марта 2023 г. в Москве состоялась одиннадцатая конференция ...;процессорные модули, базовые станции IIOT и промышленные контроллеры.
Вступай в наши группы и добавляй нас в друзья :)
Следи за успехами России в Телеграм @sdelanounas_ru
22.03.2511:42:48