MAX
Подпишись
стань автором. присоединяйся к сообществу!
Есть метка на карте 4 дня назад 1447
60

В ГК Элемент разработали оборудование ПХО и ПХТ для техпроцессов вплоть до 65нм на пластинах 300мм

© cdn.3dnews.ru

НИИМЭ и НИИТМ (оба предприятия входят в ГК Элемент) завершили завершили разработку и сборку первых в России кластерных систем для процессов плазмохимического осаждения (ПХО) и травления (ПХТ). Установки можно использовать в составе производственных линий для выпуска интегральных микросхем по топологическим нормам 65 нм на пластинах 200 мм и 300 мм. Тем самым, российские организации вошли в пятерку компаний в мире, обладающих компетенциями в разработке и производстве данного класса технологического оборудования.

[читать статью полностью...]

Кстати, а вы знали, что на «Сделано у нас» статьи публикуют посетители, такие же как и вы? И никакой премодерации, согласований и разрешений! Любой может добавить новость. А лучшие попадут в наш Телеграм @sdelanounas_ru. Подробнее о том как работает наш сайт здесь👈

Источник: www.mforum.ru

Комментарии 10

Для комментирования необходимо войти на сайт

  • 1
    Нет аватара DimaY12.12.25 13:55:44

    На 65 нм, российского литографа пока нет, это факт. Но в статье информация о вспомогательном оборудовании, которое можно использовать вплоть до 65 нм, сейчас оно будут работать на 350, поскольку это лимитируется литографом, хотя ходят слухи, что у китайцев хотят купить, но это только слухи. Так что на вырост кафтанчик пошили.

    • Roman Wyrzykowski Roman Wyrzykowski12.12.25 17:42:00

      И правильно что на вырост пошили!!!
      Так и надо — с прицелом на будущее!!!