РОСНАНО начало финансирование проекта по расширению производства вакуумных установок для микро- и наноэлектроники

Основной сферой применения продукции проектной компании является опытное и мелкосерийное производство электроники: изготовление микро- и наноэлектромеханических устройств, кварцевых микрорезонаторов. Также такие установки используются для электронно-лучевого и магнетронного напыления, ионного и плазмохимического травления, PVD и CVD осаждения с целью формирования функциональных покрытий*.

«Уникальной компетенцией проектной компании является то, что на единой платформе объединены несколько высоковакуумных камер, что позволяет последовательно выполнять разные операции сложного технологического процесса. Это ключевой элемент любого прецизионного оборудования, без которого развитие целого ряда отраслей невозможно. Уверен, что отечественная продукция в этом сегменте составит серьезную конкуренцию импортируемым аналогам, и доля присутствия «ЭСТО-Вакуум» на рынке будет расти», — отметил управляющий директор РОСНАНО Константин Деметриу.

Реализуемые с помощью установок «ЭСТО-Вакуум» смешанные технологические процессы способны создавать сложные многокомпонентные структуры, например, лазеры и светодиоды из арсенида и нитрида галлия, фосфида индия. Также среди возможных применений оборудования – датчики влажности на основе нанотрубок, магнитные датчики на базе чередующихся нанометровых слоев магнитных и немагнитных материалов, тензодатчики, в которых толщина моносульфида самария составляет менее 100 нм и др.

Общий бюджет проекта составит 1 млрд. рублей, из которых РОСНАНО профинансирует 198,5 млн. рублей. Планируется, что на плановую мощность производства, составляющую 60 установок в год, проектная компания выйдет к 2016 году.

Справка:
* — PVD (Physical Vapor Deposition, физическое осаждение из газовой фазы) – технология нанесения покрытий в вакууме из паровой (газовой) фазы, при которой покрытие получается путем прямой конденсации пара наносимого материала (см. http://thesaurus.rusnano.com/wiki/article471), CVD (Chemical Vapor Deposition, химическое осаждение из газовой фазы) — метод получения тонких пленок и порошков при помощи высокотемпературных реакций разложения и/или взаимодействия газообразных прекурсоров на подложке (для пленок) или в объеме реактора (для порошков, см. http://thesaurus.rusnano.com/wiki/article1949).

По оценкам экспертов, размер российского рынка вакуумного оборудования в 2009 году составил $30 млн., что составляет около 0,2% от мирового рынка. Согласно базовому прогнозу, в период 2010 – 2015 гг. ежегодный средний темп роста рынка составит 21,3%. Согласно оптимистическому прогнозу, учитывающему факторы замены старых методов, до сих пор используемых в России (например, электролитический (ECD) метод), высокую степень износа парка технологического оборудования и реализацию отложенного спроса на оборудование CVD и PVD; средний ежегодный рост рынка может составить 29%.

Кстати, а вы знали, что на «Сделано у нас» статьи публикуют посетители, такие же как и вы? И никакой премодерации, согласований и разрешений! Любой может добавить новость. А лучшие попадут в телеграмм @sdelanounas_ru. Подробнее о том как работает наш сайт здесь👈