Это первый патент предприятия в области химии, изобретение получило название «Раствор для удаления фоторезиста и концентрат для его приготовления». Состав является критически важным элементом в процессе производства печатных плат.

Автором изобретения выступил руководитель Центра научных разработок предприятия Андрей Алкаев. По его словам, работа над созданием отечественного аналога была инициирована в 2022 году после санкций, которые полностью заблокировали поставки спецхимии из Европы и США. Именно состав для удаления фоторезиста закончился на предприятии первым.

Андрей Алкаевответил: «Да, мы могли откатиться назад и заменить раствор устаревшим процессом на основе минеральной щелочи. Однако риски производить брак были велики, так как такой состав травит олово, сильно окисляет медь и неприменим для комбинированного метода изготовления печатных плат. Массовый брак был бы неизбежен».

От идеи до реализации прошло около двух недель. В ходе испытаний раствор показал стабильно высокий результат, а выявляемые недостатки оперативно устранялись.Ключевыми преимуществами нового состава являются высокая скорость удаления фоторезиста, щадящее взаимодействие с материалами подложки (оловом и медью), увеличенный срок службы и ряд других улучшенных технологических показателей.

Немаловажен и экономический эффект: стоимость изготовления раствора собственного производства в разы ниже импортных аналогов, включая китайские.Получив патент, «Технотех» не просто закрепил статус высокотехнологичного предприятия, но и подтвердил неуклонное стремление к технологическому суверенитету в критически важных областях.

Подписывайтесь на «Технотех»