По заказу Министерства промышленности и торговли РФ концерн «Элемент» (в лице АО «НИИМЭ» и АО «НИИТМ») представил первые отечественные кластерные установки для плазмохимического травления и осаждения. Эти системы предназначены для создания электронных компонентов с технологическими нормами до 65 нанометров и рассчитаны на обработку кремниевых пластин диаметром до 300 мм. Оборудование выполняет высокоточные операции нанесения тонких изолирующих пленок (оксида и нитрида кремния) и плазмохимического травления для формирования наноструктур.

Важнейшей особенностью установок является работа в глубоком вакууме. Обработка кремниевых пластин без контакта с атмосферой позволяет предотвратить загрязнение и существенно повысить выход годных изделий, рассказали в Минпроторге.