Российскими инженерами разработано ключевое оборудование для производства микрочипов
По заказу Министерства промышленности и торговли РФ концерн «Элемент» (в лице АО «НИИМЭ» и АО «НИИТМ») представил первые отечественные кластерные установки для плазмохимического травления и осаждения. Эти системы предназначены для создания электронных компонентов с технологическими нормами до 65 нанометров и рассчитаны на обработку кремниевых пластин диаметром до 300 мм. Оборудование выполняет высокоточные операции нанесения тонких изолирующих пленок (оксида и нитрида кремния) и плазмохимического травления для формирования наноструктур.
Кстати, а вы знали, что на «Сделано у нас» статьи публикуют посетители, такие же как и вы? И никакой премодерации, согласований и разрешений! Любой может добавить новость. А лучшие попадут в наш Телеграм @sdelanounas_ru. Подробнее о том как работает наш сайт здесь👈
Комментарии 3