Старые советские технологии использовали плазменное напыление, с размером частиц напыляемого порошка порядка десятков мкм, и толщиной покрытия от 50 мкм и выше. Здесь же описывается ионное напыление, и толщина слоя - до 20 мкм. Конечно сам по себе этот процесс тоже давно известен - с его помощью еще плёночные микросхемы делали. И вроде бы, принципиальной новизны не видно. Дело в том, что эти современные наработки состоят в повышении точности управления составом и размером напыляемых частиц, обеспечивая возможность задания нужных структур с размерами нанометрового порядка (отсюда и приставка "нано"). Если вы думаете, что это так просто - вы глубоко ошибаетесь. И еще, многие технологии советского времени обеспечивали довольно низкий процент выхода годной продукции. То есть делали с разбросом как получится, потом отсортировывали, что попадёт в нужные параметры. Так и сейчас во всём мире делается, но тенденция направлена на сокращение технологического разброса. И вы так говорите, будто херили технологии те же ученые и инженеры, что сейчас их продолжают развивать...