Создана установка плазмохимического осаждения на 300-мм кремниевых пластинах
Российская компания НИИТМ, расположенная в Зеленограде (Москва), завершила разработку и представила опытный образец первой отечественной установки для плазмохимического осаждения на 300-миллиметровых кремниевых пластинах. Это оборудование играет ключевую роль в развитии российской микроэлектронной промышленности. Ранее подобные установки закупались за границей, а доступные отечественные аналоги работали с пластинами меньшего диаметра, что ограничивало количество производимых чипов и увеличивало их себестоимость.
Кстати, а вы знали, что на «Сделано у нас» статьи публикуют посетители, такие же как и вы? И никакой премодерации, согласований и разрешений! Любой может добавить новость. А лучшие попадут в наш Телеграм @sdelanounas_ru. Подробнее о том как работает наш сайт здесь👈
Другие публикации по теме
- На московском предприятии ГК «Лассард» произведены пе...nbsp;на 90нм, — заявили в Министерстве промышленности.
- НИИМЭ и НИИТМ (оба предприятия входят в ГК Элемент) завершили зав...азработке и производстве данного класса технологического оборудования.
- В России создана автоматическая установка для монтажа полупроводниковы... участников рынка робототехники) совместно с индустриальным партнером.
Поделись позитивом в своих соцсетях
Комментарии 8