27 февраля
Новый шаг к созданию архитектуры промышленного рентгеновского литографа
Сделан важный шаг на пути создания архитектуры промышленного рентгеновского литографа. В Институте физики микроструктур РАН — филиале Института прикладной физики им. А.В. Гапонова-Грехова (ИПФ РАН) создан уникальный стенд, который является прототипом лазерно-плазменного источника рентгеновского литографа нового поколения на длину волны 11,2 нм
Кстати, а вы знали, что на «Сделано у нас» статьи публикуют посетители, такие же как и вы? И никакой премодерации, согласований и разрешений! Любой может добавить новость. А лучшие попадут в наш Телеграм @sdelanounas_ru. Подробнее о том как работает наш сайт здесь👈
Источник: scientificrussia.ru
Комментарии 7