Первый завод микроэлектроники по технологиям до 40 нм в России: Кто поставит оборудование?

В России в 2026-2028 годах построят первый завод по производству чипов с топологией 55-40 нанометров и перспективой перехода на 28 нанометров. На текущий момент российские производители уперлись в технологический предел на уровне 90 нм, причем на купленном в 2010-х годах западном оборудовании. Собственное оборудование пока позволяет работать с техпроцессами 350 нм и более, более тонкие техпроцессы — в разработке.


Российский микроэлектронный холдинг «Элемент» в 2026 году начинает строительство завода по производству полупроводниковых пластин в особой экономической зоне «Иннополис» (пригород Казани). Проект, получивший название «Волга», предусматривает поэтапное освоение технологических норм в микроэлектронике, ранее не доступных в нашей стране: старт запланирован с топологии 55-40 нм, а в перспективе предприятие должно выйти на выпуск микросхем по 28-нанометровому техпроцессу.

Цикл реализации рассчитан на пять лет: первый год отведён под строительство инфраструктуры, второй — под монтаж оборудования и тестовое производство, на третий ожидается выпуск первых коммерческих чипов по нормам 55-40 нм, четвёртый — пилотная линия 28 нм, пятый — серийное производство по этой топологии. Единая технологическая линия позволит использовать до 80% капитальных затрат для обеих технологий без возведения новых корпусов.
Под проект отведён участок площадью 41 гектар, согласованы внешние коммуникации и утверждена номенклатура продукции с российскими дизайн-центрами. Технологическим партнёром выступает АО «Микрон», проектным — АО «НИИМЭ», кадровое обеспечение возложено на МИЭТ, КАИ и ТУСУР.

Интересен вопрос технического оснащения завода — источник производственного оборудования. Российская промышленность не сможет предложить собственные решения для 90 нм и ниже вплоть до начала 2030-х годов (активные разработки начались только с 2022 года, сейчас в работе опытные установки на 130 и 90 нм), а поставки из США, Евросоюза, Японии, Южной Кореи и Тайваня для российских полупроводниковых производств блокированы санкционными режимами. В этих условиях единственным реальным источником технологий и оборудования остаётся Китай. В презентации проекта «Волга» прямо указаны четыре потенциальных донора технологий из КНР и определён список производственного оборудования под продукцию.

Китайская полупроводниковая промышленность к 2025 году достигла уровня самообеспечения оборудованием в 35%, превысив собственный целевой показатель в 30%. В сегментах травления и нанесения тонких плёнок доля местного оборудования на внутреннм рынке КНР уже превысила 40%. Среди реально существующих производителей, чьи решения уже работают на линиях 28 нм, можно выделить несколько компаний. NAURA Technology Group — её установки окисления и диффузии занимают более 60% оборудования на 28-нанометровых линиях ведущего китайского контрактного производителя SMIC. AMEC (Advanced Micro-Fabrication Equipment) — производитель оборудования для плазмохимического травления; его 5-нанометровые установки проходят валидацию на линиях TSMC. Piotech — поставщик установок PECVD для химического осаждения из паровой фазы, доля которого на линиях 3D NAND китайской YMTC выросла с 15 до 30%. ACM Research — оборудование для очистки пластин, его установки задействованы на 12-дюймовых 28-нм линиях Hua Hong с уровнем загрузки более 90%. Наиболее сложный сегмент, конечно, это литографическое оборудование. Китайский производитель SMEE (Shanghai Micro Electronics Equipment) уже перешёл к серийному выпуску 600-й серии для 90-нм узла и разрабатывает иммерсионную DUV-модель для 28 нм. В 2025 году SMIC приступил к испытаниям первой китайской 28-нм DUV-литографической машины. С учётом требований китайских властей, согласно которым новые производственные мощности должны оснащаться отечественным оборудованием минимум на 50%, китайские производители имеют и стимулы, и возможности для наращивания поставок на внешние рынки.

Таким образом, техническая основа анонсированного в 2026 году завода «Волга» может быть построена исключительно на оборудовании перечисленных китайских производителей. Это не гипотетические стартапы, а крупные промышленные компании, уже обеспечивающие работу 28-нанометровых фабрик в самом Китае и располагающие портфелем заказов, расписанным на годы вперёд. В текущей ситуации это лучше, чем ничего для наших производителей, которым более современные линии для выпуска чипов нужны уже сейчас. Своё российское оборудование находится в процессе создания, который движется с 2022 года поэтапно с уровня, на котором всё остановилось в 1991 году, — к 2030 году мы должны получить свой опытный литограф на 90 нанометров. Для страны, на 30 лет забросившей разработки такого оборудования, это станет основой для возрождения своей микроэлектронной отрасли. Ну, а пока придется воспользоваться китайскими разработками.
https://tehnoom.../archives/26279