MAX
Подпишись
стань автором. присоединяйся к сообществу!
25 июня 9
26

«Микрон» на ПМЭФ 2011: Геннадий Красников представил ход запуска производства чипов с топологическими нормами 90нм

На выставке ПМЭФ 2011 «Микрон» представил совместный проект с Роснано по созданию производства чипов с топологическими нормами 90 нм на 200мм пластинах, реализуемый на базе действующего производства ОАО «НИИМЭ и Микрон»


 Источник фото: ya1.ru


[читать статью полностью...]

Кстати, а вы знали, что на «Сделано у нас» статьи публикуют посетители, такие же как и вы? И никакой премодерации, согласований и разрешений! Любой может добавить новость. А лучшие попадут в наш Телеграм @sdelanounas_ru. Подробнее о том как работает наш сайт здесь👈

Источник: www.elinform.ru

Комментарии 0

Для комментирования необходимо войти на сайт

  • 0
    Нет аватара arcman26.06.11 16:54:26
    ты вообще то подтвердил его слова.
    • 0
      Нет аватара argnist27.06.11 05:50:12
      Ну получается за год процесс улучшили со 180 до 90, разве это плохо?
      • 0
        Нет аватара striker_art27.06.11 07:22:52
        Если учесть, что 180 Нм техпроцесс был у второго пенька еще 13 лет назад, а 90 Нм у Prescott первого поколения еще 7 лет назад, то ничего хорошего. Щас уже 22 Нм техпроцесс внедряют повсюду.
      • 0
        Нет аватара arcman27.06.11 10:42:35
        ты не понял о чём речь. они уже больше года мусолят про этот цех. новость будет когда они запустят и продукцию выдавать начнут. а пока это болтология.