стань автором. присоединяйся к сообществу!
Лого Сделано у нас
26
babicz 25 июня 2011, 09:42 1

«Микрон» на ПМЭФ 2011: Геннадий Красников представил ход запуска производства чипов с топологическими нормами 90нм

Следи за успехами России в Телеграм @sdelanounas_ru
На выставке ПМЭФ 2011 «Микрон» представил совместный проект с Роснано по созданию производства чипов с топологическими нормами 90 нм на 200мм пластинах, реализуемый на базе действующего производства ОАО «НИИМЭ и Микрон»


 Источник фото: ya1.ru


читать полностью

  • 0
    Нет аватара arcman
    26.06.1116:54:26
    ты вообще то подтвердил его слова.
    • 0
      Нет аватара argnist
      27.06.1105:50:12
      Ну получается за год процесс улучшили со 180 до 90, разве это плохо?
      • 0
        Нет аватара striker_art
        27.06.1107:22:52
        Если учесть, что 180 Нм техпроцесс был у второго пенька еще 13 лет назад, а 90 Нм у Prescott первого поколения еще 7 лет назад, то ничего хорошего. Щас уже 22 Нм техпроцесс внедряют повсюду.
      • 0
        Нет аватара arcman
        27.06.1110:42:35
        ты не понял о чём речь. они уже больше года мусолят про этот цех. новость будет когда они запустят и продукцию выдавать начнут. а пока это болтология.
Написать комментарий
Отмена
Для комментирования вам необходимо зарегистрироваться и войти на сайт,