Не сомневаюсь.    

ух... у меня звука нет, спасибо за текстовую инфу

за 5 минут много не расскажешь

Абсолютно согласен, именно поэтому подобные ролики должны быть минут по 20 хотя бы... Тем более одним Микроном российская микроэлектроника не ограничивается.

Например, для меня стало новостью, что оборудование
для фотолитографии производят всего 2 компании в мире - одна в
Японии, другая в Европе. То есть ни США ни Корея на это не
способны?

Да, это так. Это компании Canon (Япония) и ASML (Нидерланды).

А Россия разрабатывает сейчас свои собственные технологии
по созданию такого оборудования, да ещё и на рекордных 10нм:

Это не совсем так. Указанная тобой технология это не фотолитография (световой шаблон для "прорисовки" микросхем), а электронная (электронно-лучевая) литография где для "прорисовки" микросхем применяется электронный пучок. Хороша она тем что не требуются фотомаски, а также тем что с ее помощью можно делать гораздо более мелкие элементы чем при помощи классической фотолитографии. При этом 10 нм это отнюдь не какое-то сверхдостижение. Но, у электронной литографии есть существенный минус, перевешивающий все плюсы - он крайне плохо масштабируем на промышленное производство и скорость изготовления микросхем подобным образом довольно маленькая по сравнению с фотолитографией. Поэтому электролитография это удел лабораторий, производств с крайне малыми тиражами, опытно-конструкторские производства, а также производство тех самых масок, которые в последующем применяются при фотолитографии. По второй ссылке, кстати, там где Роснано работает с MAPPERом, идет как раз попытка преодолеть данный недостаток электролитографии (применяются одновременно тысячи пучков). Так что, безусловно, шансы у России есть, но пока это лишь венчурная разработка с неизвестным финалом.