14 ноября
В ИФМ РАН впервые в России создан стенд нанолитографии с проектным разрешением 30 нанометров
Впервые в России создан стенд проекционного нанолитографа с рабочей длиной волны 13,5 нм и расчетным разрешением 30 нм. Изображение наноструктуры с уменьшением 1:5 проецируется на фоторезисте с помощью двузеркального асферического объектива. Создание стенда свидетельствует о наличии в России ключевых технологий, позволяющих разрабатывать и производить литографическое оборудование, которое в ближайшие годы станет основным при производстве чипов с топологическими нормами 8-22 нм.
Кстати, а вы знали, что на «Сделано у нас» статьи публикуют посетители, такие же как и вы? И никакой премодерации, согласований и разрешений! Любой может добавить новость. А лучшие попадут в наш Телеграм @sdelanounas_ru. Подробнее о том как работает наш сайт здесь👈
Другие публикации по теме
- Командой научно-образовательного центра Функциональные Микро/Наносистемы (Н...С не превышают 5 дБ/м в телекоммуникационном диапазоне длин волн.
- Ученые из Института общей и неорганической химии им. Н.С. Ку...алмазы, равномерно распределенные в матрице аэрогеля диоксида кремния.
- Ученые МФТИ впервые показали считывание сверхпроводникового кубита компактн... может быть использован при масштабировании сверхпроводящих квантовых схем.
Поделись позитивом в своих соцсетях
Комментарии 0