MAX
Подпишись
стань автором. присоединяйся к сообществу!
Есть метка на карте 27 сентября 505
61

В России произведены первые лазеры для литографии

© static.cnews.ru

На московском предприятии ГК «Лассард» произведены первые опытные образцы эксимерного лазера, который является ключевым для литографического процесса изготовления микроэлектроники с нормами проектирования вплоть до 65 нм.

Эксимерный лазер, опытные образцы которого сегодня произведены ГК «Лассард», позволяет говорить о том, что мы все ближе к производству литографов на 130 нм (который появится в 2026 году), а в перспективе — и на 90нм, — заявили в Министерстве промышленности.

[читать статью полностью...]

Кстати, а вы знали, что на «Сделано у нас» статьи публикуют посетители, такие же как и вы? И никакой премодерации, согласований и разрешений! Любой может добавить новость. А лучшие попадут в наш Телеграм @sdelanounas_ru. Подробнее о том как работает наш сайт здесь👈

Источник: www.tadviser.ru

Комментарии 0

Для комментирования необходимо войти на сайт

  • 6
    Badassgoliath Badassgoliath27.09.24 14:34:11

    Эксимерный лазер, опытные образцы которого сегодня произведены ГК «Лассард», позволяет говорить о том, что мы все ближе к производству литографов на 130 нм (который появится в 2026 году)

    130 нанометров — это уже большая часть бытовой техники, а так же и военной электроники, от которой требуется повышенная «дубовость» для длительного хранения без деградации и устойчивость к электромагнитным помехам.

    и на 90 нм, и на 65 нм

    Заполнение тех же ниш.

    Далее наступит очередь уже десятков нанометров, ну, а там и единиц. Правда потребуется переход на рентгеновскую литографию, но направление известное, другими уже пройденное, так ничего невозможного.

    • 3
      Roman Wyrzykowski Roman Wyrzykowski27.09.24 14:39:19

      Пока только китайцы думают про рентгеновский вариант и может быть что-то пытаются делать.

      До уровня 1 нм (может и ниже) можно дойти без рентгеновской литографии (EUV литография).

      Отредактировано: Roman Wyrzykowski~14:42 27.09.24
      • 4
        Badassgoliath Badassgoliath27.09.24 15:13:35

        До уровня 1 нм (может и ниже) можно дойти без рентгеновской литографии (EUV литография).

        Дальше единиц нанометров, в моём представлении, есть фундаментальная проблема. Ширина «дорожек» начинает быть сопоставима с размерами атомов, примерно в несколько сот раз соотношение. Такие чипы (ниже нанометра) наверное будут неустойчивы по характеристикам во времени.

        По нанометрам — на 90 нм выпускались чипы в 2006 году, например центральный процессор PlayStation 3, в то время передовой чип. Кому-то может показаться, что наше отставание непреодолимо. Но это не так. Во-первых, навёрстывание ускоряется. Во-вторых, у микроэлектроники есть предел (потому и уделяется столько внимания оптическим процессорам).

        Например, возьмём космос. В 1960х годах СССР и США опережали всех других в космосе, отставание у прочих казалось непреодолимым. Но прошло 60 лет, а никакой антигравитации пока не изобретено, двигатели на том же принципе — и другие страны, типа Китая и Индии, уверенно догнали. Потому что лидеры упёрлись в технологический предел химических ракет.

        Такой же предел есть и у микроэлектроники.

        • 1
          Е.Юрий Е.Юрий27.09.24 16:03:24

          Дальше единиц нанометров, в моём представлении, есть фундаментальная проблема. Ширина «дорожек» начинает быть сопоставима с размерами атомов

          В том то и дело, что литографы печатают на 13 нм, а все остальное это технология размещения элементов. Наши инженеры смогли изготовить прототип на 11 нанометров.

        • 1
          Нет аватара Spoonout28.09.24 05:28:41

          Основной показатель кристаллической решетки — это постоянная решетки. Расстояние между двумя соседними атомами. Так у Кремния это число равняется 0,543 нм, у Германия 0,566 нм и у Арсенида-Галия 0,565 нм.

      • 0
        Badassgoliath Badassgoliath27.09.24 15:15:27

        Пока только китайцы думают про рентгеновский вариант и может быть что-то пытаются делать.

        Да? Не слежу. Я-то думал, что рентгеновские литографы уже используются. Ну, нам же легче.

      • 1
        Нет аватара Spoonout28.09.24 05:26:47

        Со всем уважением, 1 нм недостижим на кремнии.

        В кремниевой кристаллической решетке растояние между атомами чуть больше чем 0.5 нм.

        Представьте элемент (барьер) в 1-2 атома толщиной. Которые колеблются от температуры и т. п.

        Какова будет надежность?

        Даже то что заявляется сегодня, 10нм или меньше, не более чем рекламный трюк.Громкое заявление для неграмотных граждан.

        Это «фигура речи», условное обозначение процесса.

        • 0
          Roman Wyrzykowski Roman Wyrzykowski28.09.24 14:54:21

          Понятно что это приведенное значение, а не реальный физический параметр. Так впрочем было если не всегда то уже достаточно длительное время.

          Но факт остается фактом, что удается упаковывать все больше транзисторов на тей же поверхности кремниевого кристалла.

          К тому есть еще технология чиплетов и технология 3D.

          Так что — может быть для многих неожиданно — кремний в течение ближайших 10 лет сохранит свое доминирующее положение. При этом главной проблемой все больше становится большое потребление энергии.

          • 0
            Нет аватара nik.f30.09.24 06:45:35

            Roman Wyrzykowski, это реальный физический параметр, но параметр более плотной физической упаковки, либо отдельных элементов (транзисторы усложняют, добавляют им дополнительные слои).

            Большее потребление энергии решается тем же германием.

    • 1
      Нет аватара Tcheluskin27.09.24 17:56:06

      130 нанометров — это уже большая часть бытовой техники, а так же и военной электроники

      и на 90 нм, и на 65 нм

      Заполнение тех же ниш.

      На 90-нм начали выпускаться 2-ядерные AMD Athlon 64 X2; 65-нм — Intel Core 2 Duo, Эльбрус-2; 2-ядерные ARM вроде есть на 130-нм.

      Так что 90-нм — вполне ниша «офисных», учебных, да вообще любых стационарных компьютеров, кроме тех где целенаправленно нужно высокое быстродействие.

      Другой вопрос, что для 65-нм уже используются 300-мм кремневые пластины, не знаю, можно/целесообразно ли делать 65-нм с освоенными в России 200-мм пластинами.

      Отредактировано: Tcheluskin~17:56 27.09.24
      • 0
        Roman Wyrzykowski Roman Wyrzykowski27.09.24 18:22:00

        Пластины побольше тоже освоят — тут есть опыт-задел, а своя литография разрабатывается с нуля.

      • 1
        Аlex М Аlex М27.09.24 19:21:11

        для 65-нм уже используются 300-мм кремневые пластины
        Это у них используется, потому что решили чтобы два раза не вставать, перейти на 65 тогда, и заодно больше чипов за проход. Нет никакого физического запрета делать даже 28 нм хоть на 150 мм пластинах — или есть???

        • 0
          Нет аватара Tcheluskin27.09.24 20:13:17

          Физических запретов нет, но могут быть тонкости в экономике.

      • 0
        Нет аватара nik.f30.09.24 06:56:25

        Tcheluskin, это не так работает. Понятие «офисности» это не константа. Так то с такой логикой можно дать 80286 чип, чем он не подходит для офиса? Была когда-то даже такая среда, имитирующая ОС Виндоус, вот на «двоечке» вполне запускалась: графический режим, аналог ворда, екселя, даже чтение пдф и просмотр картинок…

        В реальности конечно же запросы офисного ПК постоянно растут. Вот iMac — это вообще-то рядовой офисный компьютер. И у современных маков уже несколько лет как стоят тензорные ядра для ускорения ИИ задач. Зачем в офисе ИИ задачи? Ну вот банально имеется картинка, в ней некий текст нарисован, ОС в режиме реального времени его распознает и пользователь его прямо из картинки скопирует вообще не прибегая ни к какому специализированному софту распознавания текста. Пропадает разница между текстом и картинкой. Это удобно, это быстро, это понижает требование к персоналу, необходимости иметь специальный софт и т. д. Но требует не просто крутого процессора, а специального. И таких задач с каждым разом становится всё больше и больше. Другой пример: вот записала секретарша встречу коллектива, голосовой файл на 3 часа. И тут начальник спрашивает, а что там говорили по поводу того-то и того. На современном «офисном» компьютере эти 3 часа будут превращены в распознанный текст примерно за 3 минуты. Далее можно осуществлять поиск по тексту, попросить локальный ИИ сделать выжимку и просто скопировать/вставить текст в чат начальнику. На старой машине на это уйдет в лучшем случае уйма времени, в худшем охлаждение не справится от таких задач и она сгорит :/

        • 0
          Нет аватара Tcheluskin02.10.24 18:07:31

          Tcheluskin, это не так работает. Понятие «офисности» это не константа.

          В реальности конечно же запросы офисного ПК постоянно растут.

          …голосовой файл на 3 часа. На современном «офисном» компьютере эти 3 часа будут превращены в распознанный текст примерно за 3 минуты.

          Описанные вами задачи хороши, но всё же «опциональны».

          Есть де факто реальные задачи, которые 99% «офисных» компьютеров должны тянуть.

          Скажем, на условном Pentium-II проблематично проводить видеоконференции, открывать большие документы и электронные таблицы в xml форматах и нынешние перегруженные web-страницы, использовать антивирусные «мониторы» с современными разросшимися базами. А условный Athlon 64 X2 это тянет.

          Ну, а распознать 3 часа голоса за 3 минуты это уже случай, «где целенаправленно нужно более высокое быстродействие».