стань автором. присоединяйся к сообществу!
Лого Сделано у нас
91

Создан первый отечественный фотолитограф с разрешением 350 нм

@sdelanounas_ru

 © tass.ru

Компания-резидент ОЭЗ «Технополис Москва» ЗНТЦ создала первый фотолитограф в России с разрешением 350 нм. Фотолитограф создавался в сотрудничестве с белорусским заводом «Планар».

читать полностью

Источник: tass.ru

Поделись позитивом в своих соцсетях

  • Комментарий скрыт по причине низкого рейтинга. показать
    • 8
      Нет аватара Azimut99
      24.03.2506:02:39

      Что делать? Использовать. Но это только для тех фирм, которые могут позволить себе планировать свои разработки на несколько лет вперёд. Это не только учебные заведения, но и достаточно крупные фирмы, которые в состоянии самостоятельно проектировать или по заказному проекту самостоятельно изготавливать собственные микроконтроллеры.

      Напомню, что такой литограф непосредственно изготавливается 1,5 года + до полугода пуско-наладка, что является нормой для фотолитографов.

      Недостатки литографа, с технологией 350нм конечно есть. Это меньшее количество микросхем, умещающееся на пластине и большее энергопотребление полученных чипов. Но есть и достоинства — это намного меньше убытки при простое, что удобнее при производстве опытных экземпляров, Литограф рассчитан на пластины 150-200 мм, что актуальнее, так как производство на пластинах 300 мм окупается только при производстве чипов на пол мира. У нас, как вы понимаете так не получится, да и задачи такой никогда не ставилось.

      Что касается повышенного потребления 350-нм чипов. Такое критично для питания от небольших аккумуляторов, но не столь значимо там, где потребление на десятки и сотни ватт. Также не забывайте, что 350нм литограф был разработан как ступень к разработке более актуального для промышленности 130-нм литографа.

      Отредактировано: Azimut99~07:05 24.03.25
Написать комментарий
Отмена
Для комментирования вам необходимо зарегистрироваться и войти на сайт,