Россия сделала значительный шаг вперед в области микроэлектроники с созданием первого отечественного литографа, обеспечивающего выпуск чипов размером до 350 нанометров. Об этом сообщил заместитель министра промышленности и торговли РФ Василий Шпак.
«Первый отечественный литограф мы собрали, сделали. Он сейчас проходит уже испытания в составе технологической линейки в Зеленограде», — заявил Шпак.
Создание этого оборудования представляет собой важное достижение для российской индустрии, поскольку в мире такие сложные устройства собираются всего несколькими крупными игроками. Самым известным среди них является нидерландская компания ASML, а также японские корпорации Canon и Nikon.
Испытания нового литографа проходят в Зеленограде, одном из центров российской микроэлектроники. Успешное завершение тестирования откроет новые возможности для отечественных производителей микрочипов и снизит зависимость от зарубежных технологий в этой стратегически важной области.
(Разработки отечественных литографов, прерванные в 1991 году на технологическом уровне 350 нанометров и возобновившиеся только после 2022 года начинают обретать реальные контуры. В 2025 году был подготовлен для серийного производства первый 350-нм литограф, в конце 2026 года будет готов первый опытный отечественный литограф уже на 130 нм. В создании первого за почти 35 лет отечественного литографа на 350 нм помогли специалисты завода «Планар» в Белоруссии, где собственно в СССР и были сделаны последние серьезные проекты в этой сфере.)