Это первый патент предприятия в области химии, изобретение получило название «Раствор для удаления фоторезиста и концентрат для его приготовления». Состав является критически важным элементом в процессе производства печатных плат.
Автором изобретения выступил руководитель Центра научных разработок предприятия Андрей Алкаев. По его словам, работа над созданием отечественного аналога была инициирована в 2022 году после санкций, которые полностью заблокировали поставки спецхимии из Европы и США. Именно состав для удаления фоторезиста закончился на предприятии первым.