• 
• Оптический микрочип компании IBM,

Фонд "Сколково" предоставил ООО "Нанооптика" грант в размере 30 млн руб. на реализацию проекта "Применение числовой планарной голографии в интегральной оптике", связанного с технологией цифровой обработки световой волны. Проект предусматривает создание оптических микрочипов размером 0,1-5 мм, предназначенных для обработки светового сигнала. Эти микрочипы позволят в сотни раз увеличить скорость передачи данных по уже существующим оптоволоконным сетям и повысить уровень их защиты и качество кодировки.

Первый прототип продукта будет выпущен в феврале-марте 2013 г. Завершение проекта планируется на 2014 г., а организация серийного производства (до 10 тыс. микрочипов) намечена на 2015 г.

читать дальше

Новое оборудование, приобретённое в рамках реализации "проекта 90 нм", уже смонтировано, идут пуско-наладочные работы. В этом имел возможность убедиться корреспондент Zelenograd.ru в ходе вчерашней уникальной экскурсии в работающие «чистые» помещения «Микрона». В частности, на участке фотолитографии удалось увидеть работающий по 90 нм «степпер» — установку, на которой проводится важный этап фотолитографии — засветка фоторезиста через маску. Заглянуть в новые чистые помещения, построенные для размещения дополнительного оборудования по проекту 90 нм, не удалось — окна были занавешены, но они по меньшей мере существуют. Там будет проходить завершающая фаза процесса производства чипов — металлизация.

Сроки реализации проекта «90 нм» соответствуют ранее заявленным планам: начало производства в декабре 2011 года, выход на проектную мощность в июле 2012.

Конечными продуктами проекта станут чипы навигационных систем ГЛОНАСС/GPS, промышленной электроники, а также чипы с расширенной функциональностью для биометрических паспортов и других персональных документов, банковских и социальных карт, SIM-карт и RFID-меток. Новые микросхемы будут обладать большей производительностью и объемом памяти, низким энергопотреблением.

В рамках проекта использована лицензия компании ST Microelectronics на технологический процесс изготовления интегральных схем с нормами 90 нм. Однако «Микрон» сильно продвинулся и в создании собственных технологий, заявил Геннадий Красников, который полгода назад покинул должность гендиректора ОАО «НИИМЭ и завод Микрон» и возглавил созданный «Центр развития наноэлектронных технологий», чтобы развивать направление R&D; заниматься и наукой, и коммерциализацией разработок.

Одной из разработок нового дизайн-центра, созданного на «Микроне», станет SIM-карта со встроенной электронно-цифровой подписью (ЭЦП). Реализация дополнительных функций в уже привычных SIM-картах как раз требует увеличения быстродействия, снижения энергопотребления, то есть перехода на меньший топологический размер — с нынешних 130 на 90 нанометров. Геннадий Красников пояснил, что речь идёт, к примеру, о применении технологии «низкопотребляемый КМОП».