Статьи и новости по теме «Литография»

Резидент особой экономической зоны (ОЭЗ) «Технополис Москва» — завод «Микрон» (входит в ГК «Элемент») — на конец 2023 года предприятие заместило отечественными аналогами 26 материалов, которые ранее приобретались у зарубежных производителей.

03.07.2020 10:01

Ученые Новосибирского института органической химии СО РАН (НИОХ СО РАН) синтезировали акрилат-силоксановый гибридный мономер — фотополимерный материал c добавлением кремния, который обладает чувствительностью к синхротронному излучению (СИ) и хорошо подходит для создания сложных микроструктур на твердых подложках методом рентгеновской литографии. Ключевая сфера применения данной технологии — производство микросхем, при этом зачастую используются дорогостоящие импортные полимеры, например, на основе эпоксидной смолы. Новый материал может стать хорошей альтернативой зарубежным аналогам. Эксперименты с использованием СИ, проведенные специалистами Института ядерной физики им. Г.И. Будкера СО РАН (ИЯФ СО РАН), подтвердили его эффективность. Результаты представлены в журнале «Химия высоких энергий».

Инженеры осваиват оборудование. Настраивают и отрабатывают технологические процессы.

 © angstrem-t.com

Четвёртый квартал 2015 года. Крупнейший в СНГ завод производства микроэлектроники.

Ученым из Самарского филиала (СФ) Физического института им. П.Н. Лебедева РАН удалось теоретически описать распространение структурно устойчивых когерентных световых пучков и их преобразование в линейных оптических системах. Результаты этих исследований открывают возможность создания лазеров, генерирующих пучки с заданными свойствами, что важно для развития лазерной оптики, медицины, технологии обработки металлов. О результатах исследований «ФИАН-информ» рассказала сотрудник лазерно-измерительной лаборатории СФ ФИАН Евгения Вадимовна Разуева.

• 
• raz4

_{На рисунке: Спиральный пучок сложной структуры (интенсивность и фаза). Несмотря на свой «рукотворный» вид, данный пучок такой же естественный физико-математический объект, как и обычные лазерные пучки, является точным решением уравнения Шредингера и сохраняет структуру интенсивности при распространении}

РОСНАНО и MAPPER Lithography, голландская компания-разработчик систем безмасочной литографии, объявляют о начале инвестиций в производство инновационного литографического оборудования. Общая сумма сделки составляет €80 млн, доля РОСНАНО — €40 млн. Такую же сумму вкладывают акционеры MAPPER, — инвестиционные компании ADP Industries, Parcom Capital (Parc-IT) и Hoving & Partners, технологические компании Technolution и DEMCON, ряд частных инвесторов и семейных инвестиционных фондов, а также Агентство Нидерландов при министерстве экономики, сельского хозяйства и инноваций. Существенная часть инвестиций РОСНАНО будет направлена на создание в России производства ключевого компонента литографических систем MAPPER.

Компания MAPPER Lithography, основанная в Делфтском техническом университете, разрабатывает литографическое оборудование нового поколения на основе технологии множественных электронных лучей (multiple e-beam), позволяющей обойтись без дорогостоящих литографических масок. Технология MAPPER сочетает ранее практически недостижимую разрешающую способность (22 нм и выше) с высокой производительностью, позволяя обрабатывать до 100 кремниевых подложек в час.

Инвестиции позволят компании MAPPER выпустить несколько поколений оборудования Matrix. Модель Matrix 1.1, намеченная к выпуску в 2012 году, использует более 1300 электронных лучей и обрабатывает одну подложку в час. Модель Matrix 10.1, использующая 13 260 электронных лучей, обладает производительностью 10 подложек в час. Кластерная система Matrix 10.10, состоящая из десяти установок Matrix 10.1, способна обрабатывать 100 подложек в час, что соответствует требованиям массового производства микросхем. В рамках инвестиционного проекта производственные мощности MAPPER будут расширены до 20 литографических машин в год.

В России планируется создать предприятие по выпуску электронной оптики на основе микроэлектромеханических систем (МЭМС) — ключевого компонента оборудования MAPPER. Производство требует использования уникальных технологий в области МЭМС. Мощность российского предприятия составит до 20 систем электронной оптики в год, каждая из которых способна управлять 13 260 параллельными электронными лучами. Проект ориентирован на сотрудничество с ведущими российскими профильными исследовательскими институтами.